一、型號：MiniStation plus

二、主要用途：控制各種氣體環(huán)境條件，可根據(jù)實驗要求任意設定氧氣含量、二氧化碳含量、氮氣含量，提供各種細菌的連續(xù)培養(yǎng)，傳代，培養(yǎng)基轉換和觀察等工作。

三、工作條件：

- 電源條件：220V，50/60Hz；電流：2.5A；

- 環(huán)境條件：環(huán)境溫度25℃，濕度＜85%；

四．技術參數(shù)：
★1、系統(tǒng)工作站由10mm透明丙烯酸板制造，可見度好、絕緣性好、抗腐蝕能力強。

2、工作站尺寸

2.1外部占用尺寸：高度：750mm，寬度：610mm,深度：750mm，可放置在標準實驗臺上。

★2.2 工作站小巧方便，占地面積小于0.4m2，便于放置于實驗桌上。巧妙的設計，很大程度的節(jié)省了內部無用的空間，節(jié)省氣體。

3、工作站容量

3.1 操作時工作站容量：120個培養(yǎng)皿（90mm培養(yǎng)皿）。

★3.2 轉移匣：8個培養(yǎng)皿（90mm培養(yǎng)皿）。

★4、轉移匣：前置抽屜式樣品轉移倉，培養(yǎng)皿進入轉移匣后，經(jīng)過氮氣吹洗的過程，將轉移匣內的氧氣全部驅除，再打開轉移匣內門將培養(yǎng)皿轉入工作室內；轉移匣工作時間≤15秒（轉移匣可在15秒內達到無氧條件）。

5、工作站參數(shù)控制范圍

★ 5.1氧控制范圍：

厭氧模式：低于5ppm

低氧模式：0.1-25%，0.1%遞增。

★ 5.2二氧化碳控制范圍：0.1-20%，0.1%遞增。

★ 5.3溫度：溫度控制范圍：室溫+3℃～52℃，溫度均一性±0.3℃。

5.4 濕度：數(shù)字式自動濕度控制系統(tǒng)，半導體高效除濕裝置，快速準確。濕度控制范圍：室內濕度— 85%濕度。

★6.操作系統(tǒng)：裸手操作系統(tǒng)。長袖套裸手操作，進入工作站的袖套系統(tǒng)經(jīng)過抽真空充氮氣的過程，能夠保證在人手進入工作站時100%去除所有氧氣，不帶有氧氣進入工作站。

7. 由腳動開關控制抽真空和充氮氣，標配外置式真空泵。

8. 采用高效鈀催化劑，無需頻繁活化，使氧氣濃度小于5ppm。

9. 脫毒系統(tǒng)，去除硫化氫氣體和揮發(fā)性不飽和脂肪酸，去除生長抑制因子。擁有更好的培養(yǎng)環(huán)境，得到更好的培養(yǎng)結果。

10、內置標配LED燈，254nm紫外滅菌燈（滅菌時間可根據(jù)用戶需求隨意設定，到時自動關閉）。

11、氣體供應

40L氣瓶：N2，CO2，壓縮空氣（做低氧時需要）；厭氧混合氣體（做厭氧時需要）。

12、低壓、低溫、高溫聲音報警系統(tǒng)。

13、獨特的干燥式泄壓閘設計，保護內部正壓，防止漏氣。

★14、上蓋可整體取下，便于放置較大儀器或進行徹底清潔。

15、標配內部電源插座，可對工作站內儀器進行供電。

五. 主要配置：

主機1臺，真空泵1臺、長袖套1雙，剛性袖口1雙， O型圈（手腕袖口用）2雙，O型圈（長袖套用）1雙，培養(yǎng)皿架2個，照明燈1個，紫外燈1個，催化劑1袋(200g)，調節(jié)劑（脫毒劑）1袋200g，潤滑粉（袖套用）1瓶，內部電源插座1個，電源線1支，操作手冊1套，安裝調試附件1套。